초미립 분말을 제조하는 중요한 방법으로서, 공기 분쇄 기술은 다양한 고성능 미세 분말 소재를 생산할 수 있습니다.
분말 가공 기술의 심도와 분말 소재의 물리화학적 특성 및 응용 특성의 변화에 따라, 입자 크기가 10μm 미만인 미세 분말을 초미분말이라고 합니다. 과학기술의 발전으로 많은 산업 분야에서 분말 형태의 고체 소재를 원료로 필요로 하고 있습니다.
이러한 분말은 입자 크기가 작고 순도가 높아야 하며, 다른 불순물이 없어야 합니다. 또한 분말의 입도 분포에 대한 요건도 있습니다. 따라서 초미분말 분쇄 기술 및 장비의 응용 분야가 확대되고 있습니다. 과학 연구자들은 초미분말 분쇄 기술과 장비에 더욱 많은 관심을 기울이고 그 중요성을 더욱 강조하고 있습니다.
에어 분쇄기의 특성
제트 밀(jet mill)이라고도 하는 에어 분쇄기는 고속 제트를 사용하여 재료를 충돌, 충격, 전단시켜 분쇄합니다. 에어 밀을 사용하여 재료를 분쇄하여 얻은 제품은 제트 밀 균일한 미세도, 좁은 분말 입자 크기 분포, 높은 순도, 매끄러운 입자 표면, 규칙적인 모양, 양호한 분산성을 갖습니다.
분쇄 과정에서 재료의 오염이 적고, 무공해 및 멸균 처리가 가능합니다. 따라서 식품 및 의약품과 같이 이물질 오염이 허용되지 않는 분야의 초미분쇄에 적용될 수 있습니다. 에어젯 밀은 분쇄 과정에서 상당한 열을 방출하지 않아 다른 분쇄 장비에 비해 저융점 재료나 열에 민감한 재료의 분쇄에 더욱 적합합니다. 생산 공정은 고도로 자동화되어 있어 대규모 산업 생산에 활용될 수 있습니다.
공기 분쇄는 분쇄와 후속 생산 단계의 병행 작업, 즉 재료의 동시 분쇄 및 건조를 용이하게 할 수 있습니다. 또한, 분쇄 중에 용액을 분사하여 분말을 코팅하거나 표면을 개질할 수 있습니다. 그러나 높은 에너지 소비와 같은 단점이 있습니다.
에어 분쇄기의 적용
군사 및 항공우주 분야에서는 초미립 분말 소재가 스텔스 항공기 및 스텔스 탱크와 같은 스텔스 소재를 제조하는 데 사용됩니다. 산화제, 촉매 등을 분쇄하여 얻은 제품으로 만든 로켓 추진제는 기존 추진제보다 두 배 이상 빠르게 연소될 수 있습니다.
전자 분야에서 초미립 산화철 분말은 고성능 자성 재료 생산에 사용됩니다. 초미립 산화규소 분말은 고성능 저항 재료 생산에 사용됩니다. 초미립 고순도 알루미나 분말은 LED 칩용 사파이어 기판 제조에 사용됩니다. 초미립 분말로 제작된 기판은 안정성이 우수하고, 광투과율이 우수하며, 가시광선을 흡수하지 않는 특성을 지닙니다. 공기 분쇄 기술로 처리하면 몰리브덴 분말의 입자 크기가 감소합니다. 입도 분포가 좁아지고, 형태가 균일해지며, 이완 밀도와 탭 밀도가 모두 향상됩니다. 이는 전구, 전자관, 집적 회로 생산에 더욱 유용하게 사용됩니다.
신에너지 분야에서 공기 분쇄로 처리된 재료의 평균 입자 크기는 미세합니다. 입자 크기 분포는 좁고, 입자 표면은 매끄럽고, 입자 모양은 규칙적이며, 순도가 높고, 활성도가 높습니다. 이는 분산성이 우수함을 의미합니다. 이러한 특성은 전극 재료의 제조 요건을 충족하여 공기 분쇄 기술이 널리 적용 가능하게 합니다. 공기 분쇄기에 적합한 대표적인 재료로는 리튬망간산화물, 리튬코발트산화물, 리튬철인산화물, 리튬탄산화물, 구형 흑연, 석유 코크스, 아스팔트 코크스, 3원계 재료, 니켈-수소 합금, 옥살산제일철, 리튬티타네이트, 리튬니켈망간산화물 등이 있습니다.
공기 분쇄 기술은 마이크로나노 분말 가공에 중요한 기술적 방법이며, 이에 대한 연구를 통해 자원 활용도를 효과적으로 향상시킬 수 있습니다.
에픽 파우더 유동층 제트 밀
세라믹 유동층 제트 밀 제조 산업에서 미세 분말을 생산하는 데 사용되는 밀링 장비의 한 유형입니다. 이 기술은 제약, 화학, 식품 가공 등의 산업에서 널리 사용됩니다. 이 유동층 제트 밀은 다양한 크기와 모양의 입자를 생산할 수 있는 효율적이고 유연한 밀링 시스템입니다.
세라믹 유동층 제트 밀은 밀링 챔버, 유동화 챔버, 그리고 가스 공급 시스템으로 구성됩니다. 밀링 챔버는 분쇄 공정이 이루어지는 곳입니다. 챔버를 마모로부터 보호하기 위해 내마모성 세라믹 타일로 마감되어 있습니다. 유동화 챔버는 밀링 챔버 위에 위치하며, 밀링 챔버 전체에 가스를 고르게 분배하는 데 사용됩니다. 가스 공급 시스템은 밀링 챔버 내 입자를 유동화하는 데 사용되는 가스를 공급합니다.
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